Астрономия и микроскопия

Приветствую. Заранее извиняюсь за полное невежество в данном вопросе. Работаю в другой области,огромный пласт инфы в интернете не потянул, среди всего этого готового решения не нашел, только обрывки.
Требуется микроскоп, уверенные 800х с возможностью делать фото на этом увеличении - это вроде как не проблема, хотя и тут хотелось бы получить рекомендацию по выбору (думаю лучше всего если это будет тринокуляр). К этому еще прецизионный координатный столик (не знаю, может в этой области он как-то по другому называется)
А вот основная задача - облучить УФ излучением определенную часть исследуемого объекта. Знаю что это делается как-то через свободный порт окуляра (тот что для камеры например ) , но как и что для этого нужно - вот тут нужен совет.
Исследуемый объект: около 1,5х1,5мм. Область засветки: экспериментально, около 200х200 мкм, точность позиционирования: экспериментально, соизмеримо с площадью засветки +/- 30% где-то так.
Микроскоп желательно с совместимость с разными аксессуарами (не критично, ну просто мало ли что понадобится в будущем )
Бюджет: оптимально 3 k$, допустимо 5 k$.
Хотелось бы получить хотя бы начальные рекомендации, т.к. экспериментировать нет на чем, а покупать недешевый аппарат не имея уверенности в решении стремно. На растерзание есть побитый жизнью но еще рабочий МБС-10.

Источник у вас есть, какой диапазон в нм? Лазер или диод, пучок расходящийся или параллельный? Лампа?
Скорее всего, собирать потребуется из металлографического или люминесцентного микроскопа, точечный источник располагать в области полевой диафрагмы, либо просто полевая если >380 нм.

На данный момент нет ничего. Источник необходим 254нм но возможны варианты (другие диапазоны). Т.к. я пока не представляю всего решения, и как это все пройдет через оптику , соответственно не имею понятия какой источник требуется - возьмем то что будет необходимо.

Спасибо, мне тут правда ничего непонятно (как я уже писал область для мня очень далекая) , пошел учить матчасть.

Опля. Это не рефракционный диапазон. Для этого нужны зеркальные объективы от ИК-микроскопа.
Типа такого: http://www.ebay.com/itm/MICROSCOPE-OBJE ... 3a9897c365
Наименьшая длина волны, которую пропускают линзовые самые лучшие флюары-объективы нужных увеличений - 340 нм.

вы уверены что вам нужны 254нм-- это очень непростой диапазон
подумайте-хорошо-- иначе может получится космическая программа

не понятно почему вам нужна такая малая площадь засветки
зачем прицельное освещение--это ультрафиолет- его не так просто прицеливать
поясните пожалуйста задачу точнее ?

Подробней:

Иследуемый образец - это кристал электронного чипа.

На практике слышал как минимум о двух наиболее бизких к моей задаче применениях:

- 1. Снятие защиты в старых микроконтроллерах( вкратце - процессор с переферией и памятью на одном кристале) - облучением определенных областей памяти эта память "стиралась" (особенность строения ячейки памяти ), сейчас уже не актуально ввиду переноса таких областей на нижние слои кристала либо других методах защиты.

- 2. Снятие пассивирующего слоя с кристала для последующего подключения микрощупов и т.п.

У меня задача близкая к 1 - мне также необходимо просветить часть памяти с большим допуском (ну правда то окно что я указал это уже и есть "большой" допуск, для рассмотрения отдельной ячейки оптический микроскоп практически непригоден)
именно поэтой причине мне и нужна длина волны 254 нм

Вариант 2 вроде как тоже использовался с оптическими микроскопами, хотя точность "пятна" и его позиционирования требовалась в разы больше. Хотя тут длину волны можно и до 500 приподнять.

PS: ну, если это все "космос", то буду смотреть в сторону других решений, не требущих точного облучения (вопрос по микроскопу все равно останется но уже будет не таким диким, кроме того добавится вопрос по микроманипулятору)

я думаю что точное прицеливание возможно только в районе 410 нм - и около него
то что еще видно и полоса излучателя будет широкая - но не понятна необходимая энергия
потока -
от этого зависит паразитное свечение оптической системы-- которое может быть очень значительным и придется
отдельно облучать и прицеливатся защита и т п
и надо все таки знать размер пятна облучения точно
и точность прицеливания необходимого в диапазоне 410 нм

проверка пригодности такой системы потребует эксперимента с косвенным наблюдением для выбора энергии и размера пятна
и может привести к отсутствию результата- доступная правильная энергия в этом диапазоне сильно ограничена
а лазеры полноценные это совсем другая тема и другой подход и дорогой

если вы хотите создать полноценный нелюминисцентный микроскоп на диапазоне 265нм - видимо вы неправильно ставите задачу
или не представляете с чем это связано- или я вас не правильно понял

есть в наличии мощный синий лазер - можно попробовать сжеч ваш кристалл прицельно но это уже в личку пишите
с большой энергией частота значения решающего иметь не будет - сгорит как надо дым только останется

Мы делали такие объективы – но только небольших увеличений (10х).
http://www.labor-microscopes.ru/about/n ... ektiv.html
http://www.labor-microscopes.ru/about/n ... ektra.html
Мне кажется, что в указанной Вами сумме можно ожидать только объектив (и то врядли). Зеркально-линзовый объектив не годится, мне кажется, потому что он имеет тн центральное экранирование (перекрыта центральная часть зрачка – поэтому не будет равномерного формирования в сфокусированных лучах). Осветитель тоже нужен с соответствуюшим спектром пропускания. Это кварцевая оптика. Если нужна ахроматизация – ещё всё сложнее.

_________________
сайт: http://www.labor-microscopes.ru

я вижу возможность создания такой пушки только на 410 - 500 нм
с диаметром пятна 10- 25 микрон-- трудности только величины необходимой энергии
это и будет определять затраты